高功率UVLED固化点光源
高效 | 先进 | 快捷 | 方便 | 一流
光纤耦合紫外点光源HK ALE 1
高达 30W 紫外输出
光纤耦合紫外点光源HK ALE 3
高达 15W 紫外输出
多波段选择输出
单波段输出
多波段输出
HK UVLED点光源系列产品精确地提供最适合您的UV固化应用的光谱成分。
在使用过程中，可以从一系列可用的中心波长（CWL 365、385、405 和 436 nm）中进行选择，并分别定义其输出强度。
高功率紫外辐射
HK ALE 1最高可实现30W辐射输出
HK ALE 3最高可实现15W辐射输出
HK UVLED点光源系列产品具有更通用的功能，能够在单光谱和多光谱配置中提供高功率性能。
高功率的紫外输出在处理厚层感光粘合剂和涂层时有其优势，可以更深入地渗透到材料中，以实现一致和完全的固化，提升工作速率。
可选高性能光学配件
HK UVLED点光源系列产品可以搭配多种高性能光学配件，将紫外输出灵活地传送到目标光斑。
广泛的控制接口将HK UVLED点光源轻松集成到汽车、电子、医疗或光学生产基础设施中。所有的光源都具有可现场更换的LED模块，以保持维护时间和成本。
应用领域
解决方案
用于低成本改造光刻设备的UV紫外光源
紫外光刻和曝光是半导体行业生产各种高端芯片、微观电路结构的核心技术，UVLED为半导体制造领域提供了一种理想解决方案。虹科高功率紫外光源ALE 1 UVLED光源与准直直泛光曝光光学器件相结合，不仅是将传统掩模对准器灯箱升级到UV-LED技术的多功能和灵活的选择，也是一种经济实惠的解决方案，助力学术界和工业界的小型研究实验室应用。
半导体制造工艺中的虹科光源解决方案（2）
半导体工艺制造是发展电子产业的核心，而光刻光源的选择对于半导体制造有至关重要的作用。上期内容我们介绍了虹科曝光光源在掩膜对准系统和宽带步进系统中的应用。在本篇内容中，我们将继续为您展示虹科曝光光源在半导体领域的其他拓展应用。
半导体制造工艺中的虹科光源解决方案（1）
半导体工艺制造是发展电子产业的核心，而光刻光源的选择对于半导体制造有至关重要的作用。虹科为您带来用于光刻领域的高功率紫外光源解决方案，为改造传统的紫外线曝光生产工具或设计新的工具提供新的便利。