紫外光刻和曝光是半导体行业生产各种高端芯片、微观电路结构的核心技术，UVLED为半导体制造领域提供了一种理想解决方案。虹科高功率紫外光源ALE 1 UVLED光源与准直直泛光曝光光学器件相结合，不仅是将传统掩模对准器灯箱升级到UV-LED技术的多功能和灵活的选择，也是一种经济实惠的解决方案，助力学术界和工业界的小型研究实验室应用。

半导体工艺制造是发展电子产业的核心，而光刻光源的选择对于半导体制造有至关重要的作用。上期内容我们介绍了虹科曝光光源在掩膜对准系统和宽带步进系统中的应用。在本篇内容中，我们将继续为您展示虹科曝光光源在半导体领域的其他拓展应用。

半导体工艺制造是发展电子产业的核心，而光刻光源的选择对于半导体制造有至关重要的作用。虹科为您带来用于光刻领域的高功率紫外光源解决方案，为改造传统的紫外线曝光生产工具或设计新的工具提供新的便利。